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| Preço | Negotiable |
| MOQ | 1kg |
| Prazo de entrega | Depends on quantity |
| Marca | Huitong |
| Local de origem | Yiyang, China |
| Certification | SGS |
| Número do modelo | Fibras ultrafinas curtas |
| Packaging Details | Paper carton |
| Condições de Pagamento | L/C, T/T |
| Capacidade de abastecimento | 500 kg/mês |
| Brand Name | Huitong | Número do modelo | Fibras ultrafinas curtas |
| Certification | SGS | Local de origem | Yiyang, China |
| Quantidade mínima de encomenda | 1 kg | Price | Negotiable |
| Condições de Pagamento | L/C, T/T | Capacidade de abastecimento | 500 kg/mês |
| Tempo de entrega | Depende da quantidade | Packaging Details | Paper carton |
| Comprimento | 80-100um | Embalagem | Flexível |
| Aplicação | Solução de filtro de gás semicondutor/filtros de gás de alta pureza | Material | Aço inoxidável 316L/Hastelloy C22/C59/Níquel 200 |
| Diâmetro | 1um/1.5um/2um |
Elementos de filtro de metal de 1 μmNa escala nanométricapara purificação de gases de processo por semicondutores
Tipo de produto: fibras curtas de aço inoxidável 316L ultrafinas
Diâmetro da fibra: 1um/1,5um/2um disponível
Comprimento de corte: 80-100um
Composição química da matéria-prima ((Wt%))
|
Elementos |
C |
Sim |
-
Não
|
Não.
|
Cr
|
Mo.
|
S
|
P
|
|
Padrão
|
≤
0.03
|
≤
1.00
|
≤
2.00
|
10
~
14
|
16
~
18
|
2
~
3
|
≤
0.03
|
≤
0.045
|
|
Valor
|
0.028
|
0.56
|
0.5
|
10.85
|
16.97
|
2.1
|
0.003
|
0.027
|
Na fabricação de semicondutores, a manutenção de gases de processo de ultra-alta pureza é fundamental para evitar defeitos e garantir altos rendimentos.m os meios de filtragem metálicos desempenham um papel vital na purificação de gases, eliminando os contaminantes de partículas e contribuindo simultaneamente para o controlo da contaminação molecular atmosférica (CMA),que é essencial para a fabricação avançada de wafers.
Filtração de alta eficiência (1μm de retenção)
Captura partículas submicrônicas que podem causar defeitos nos processos de fotolitografia, gravação e deposição.
Reduz o risco de contaminação da superfície da bolacha, melhorando o rendimento.
Químicamente inerte e resistente à corrosão
Fabricados a partir de materiais de alta purezade aço inoxidável (316L), níquel ou ligas sinterizadaspara compatibilidade com gases agressivos (por exemplo, HF, HCl, NH3).
Resiste à desgaseificação, evitando contaminação adicional.
Capacidade de controlo AMC
Alguns filtros metálicos avançados incorporamTratamentos de superfície ou revestimentos(por exemplo, passivação, polir eletrónico) para minimizar a adsorção/dessorção de compostos orgânicos ou ácidos voláteis.
Ajuda a encontrarSEMI F21 AMC Classe 1requisitos para processos sensíveis como a litografia EUV.
Resistência a altas temperaturas e pressões
Desempenho estável em condições adversas (até 500°C ou superior para algumas ligas).
Adequado paraVDC, difusão e implantação de íonsAs linhas de gás.
Longa vida útil e limpeza
Reutilizável após limpeza (metodos ultrasônicos, químicos ou térmicos), reduzindo o custo de propriedade.
Projeto de queda de baixa pressão para fluxo de gás de eficiência energética.
Fornecimento de gás de ultraalta pureza (UHP)(N2, Ar, H2, O2, etc.)
Processos de gravação e deposição(CVD, PVD, ALD)
Fotolitografia(Ambientes de VUE/DUV sensíveis à AMC)
Filtragem de gás a granel e filtragem no ponto de utilização (PoU)
Durabilidade superiorversus filtros poliméricos (que podem degradar e eliminar partículas).
Não há perda de fibrasao contrário dos filtros HEPA/ULPA tradicionais.
Melhor atenuação da AMCem comparação com os filtros de partículas normais.
SEMI F20(Controlo de partículas)
SEMI F21(Classificação AMC)
A norma ISO 14644-1(Normas de salas limpas)
Medios de filtragem metálicos de 1 μmé uma solução robusta para purificação de gases semicondutores, combinandofiltragem de partículas, controlo de AMC e resistência químicapara satisfazer as exigências rigorosas da fabricação avançada de wafers.
