Medios de filtragem metálicos de 1 μm para purificação de gases de processo de semicondutores --- Fabricação de wafers com controlo AMC

Elemento filtrante de metal de 1μm (Escala nanométrica)para purificação de gás de processo de semicondutores Tipo de produto: fibra curta de aço inoxidável 316L ultrafina Diâmetro da fibra: 1um/1.5um/2um disponível Comprimento de corte: 80-100um Composição química da matéria-prima (Peso%) Elementos C Si Mn Ni Cr Mo S P Padrão ≤0.03 ≤1.00 ≤2.00 10~14 16~18 2~3 ≤0.03 ≤0.045 Valor 0.028 0.56 0.5 10.85 16.97 2.1 0.003 0.027 Na fabricação de semicondutores, manter gases de processo de pureza ultra-alta é fundamental para evitar defeitos e garantir altos rendimentos. 1μm meios filtrantes de metal desempenham um papel vital na purificação de gás, removendo contaminantes particulados e também contribuindo para o controle de Contaminação Molecular Aerotransportada (AMC), o que é essencial para a fabricação avançada de wafers. Principais Características e Benefícios Filtragem de alta eficiência (retenção de 1μm) Captura partículas submicronicas que podem causar defeitos em processos de fotolitografia, gravação e deposição. Reduz o risco de contaminação da superfície do wafer, melhorando o rendimento. Quimicamente inerte e resistente à corrosão Feito de alta pureza aço inoxidável (316L), níquel ou ligas sinterizadas para compatibilidade com gases agressivos (por exemplo, HF, HCl, NH₃). Resiste à liberação de gases, evitando contaminação adicional. Capacidade de controle de AMC Alguns filtros de metal avançados incorporam tratamentos de superfície ou revestimentos (por exemplo, passivação, eletropolimento) para minimizar a adsorção/dessorção de orgânicos voláteis ou ácidos. Ajuda a atender SEMI F21 AMC Classe 1 requisitos para processos sensíveis como litografia EUV. Resistência a alta temperatura e pressão Desempenho estável em condições adversas (até 500°C ou superior para algumas ligas). Adequado para CVD, difusão e implantação iônica linhas de gás. Longa vida útil e capacidade de limpeza Reutilizável após a limpeza (métodos ultrassônicos, químicos ou térmicos), reduzindo o custo de propriedade. Design de baixa queda de pressão para fluxo de gás com eficiência energética. Aplicações na fabricação de semicondutores Fornecimento de gás de pureza ultra-alta (UHP) (N₂, Ar, H₂, O₂, etc.) Processos de gravação e deposição (CVD, PVD, ALD) Fotolitografia (ambientes EUV/DUV sensíveis a AMC) Filtração de gás a granel e no ponto de uso (PoU) Por que filtros de metal em vez de alternativas? Durabilidade superior vs. filtros poliméricos (que podem degradar e liberar partículas). Sem liberação de fibra ao contrário dos filtros HEPA/ULPA tradicionais. Melhor mitigação de AMC em comparação com filtros de partículas padrão. Conformidade e Padrões SEMI F20 (Controle de Partículas) SEMI F21 (Classificação AMC) ISO 14644-1 (Padrões de Sala Limpa) Conclusão Meios filtrantes de metal de 1μm é uma solução robusta para purificação de gás de semicondutores, combinando filtragem de partículas, controle de AMC e resistência química para atender às exigências rigorosas da fabricação avançada de wafers.