China Equipamento de limpeza de SMT para dispositivos de semicondutor à venda
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Equipamento de limpeza de SMT para dispositivos de semicondutor

Preço Negotiable
MOQ 1 unit
Prazo de entrega Negotiable
Marca INFINITE™
Lugar de origem CHINA
Number modelo MT-SD820
Detalhes de empacotamento Caixa
Termos do pagamento L/C, D/A, D/P, T/T

Detalhes do produto

Especificação do produto

Brand Name INFINITE™ Number modelo MT-SD820
Lugar de origem CHINA Quantidade de ordem mínima 1 unidade
Termos do pagamento L/C, D/A, D/P, T/T Detalhes de empacotamento Caixa
Aplicação Máquina de limpeza em linha para dispositivos de semicondutor Modelo MT-SD820
Tipo INFINITE™ Características Sistema de limpeza em linha da precisão
Circunstância Novo Material do corpo SUS304 de aço inoxidável
Funcionalidade Uso industrial Poder Poder/ar: 380VAC, 3P, 50/60HZ, 110KW/0.5Mpa
Empacotamento Caixa de madeira/caixa Prazo de execução 15 dias

Descrição do produto

MT-SD820 integrou a máquina de limpeza em linha para dispositivos de semicondutor é um sistema de limpeza em linha da precisão projetado limpar grandes quantidades de dispositivos de semicondutor. A máquina da limpeza MT-SD820 é capaz de remover o fluxo e os contaminadores orgânicos e ono-orgânicos que permanecem após a solda de dispositivos de semicondutor. Esta máquina é compatível para o uso com quadro da ligação, CSP, microplaqueta de aleta, SORVO, IGBT, micro diodo emissor de luz, módulo de IC, a máquina etc. MT-SD820 é uma precisão que limpa em linha a máquina com as capacidades de fornecer ultra-precisão em grande escala a limpeza centralizada e de fornecer a melhores eficiência e efeito de limpeza de limpeza.  Esta máquina usa um sistema de controlo do PLC, com uma relação chinesa e inglesa da operação para a facilidade para estabelecer-se e a programação.

 

Características da máquina:

 

1. Sistema mais limpo em linha preciso para dispositivos de semicondutor maiorias das quantidades.

2. Pulverize o método da limpeza remove eficazmente o fluxo e os outros tipos de poluentes.

3. Processo de limpeza: produto químico

4. Enxaguando Proces: Enxaguadela de DI água

5. Processo de secagem: Secagem do ar quente

5. O líquido de limpeza e o DI água podem automaticamente ser adicionados.

5. A pressão do líquido de limpeza pode ser ajustada usando o software e pode ser ajustada às pressões de limpeza diferentes.

6. O grandes fluxo e alta pressão combinados do líquido de limpeza e do DI água penetram completamente na diferença inferior de CSP e de BGA, limpando completamente.

7. Equipado com um sistema de vigilância da resistividade da lavagem para detectar a concentração do íon de lavagem DI água.

8. Corte do vento da faca de ar mais o sistema de secagem infravermelho ultra-longo da circulação de ar quente

9. A relação do sistema de controlo do PLC, a chinesa e a inglesa da operação faz esta máquina fácil estabelecer-se, programa da mudança, programa novo da loja, e designa o programa.

10. O corpo de máquina, as tubulações e as peças, a temperatura, o ácido, o alcaloide, e outras tubulações do líquido de limpeza são feitos de SUS304 de aço inoxidável

11. funções opcionais a escolher de

 

Especificações da máquina:

 

Especificações MT-SD820

 

Largura da correia transportadora: 500mm

Velocidade da transmissão da correia da malha: 100~1500mm/min, 300~500mm/min recomendado

Altura do transporte de correia da malha: 900±50mm

Sentido de transferência do PWB: Da esquerda para a direita

Largura do PWB: 50~500mm

Altura do PWB: 0~100mm

Capacidade líquida de limpeza do tanque: 300L

Enxágüe uma capacidade do tanque: 120L

Precisão da filtragem: 0.2um

Consumo de água dos DI: 600~1000L/H

Deslocamento: ³ /H de 40m

Controle: PLC

Poder/ar: 380VAC, 3P, 50/60HZ, 110KW/0.5Mpa

Escala de teste da resistividade: 0~18MΩ

Tamanho da máquina: L7400*W1650*H1650mm

Peso da máquina: 3500KGF

 

Máquina de limpeza em linha MT-SD820 do dispositivo de semicondutor

INFINITE AUTOMATION CO ., LIMITED

Manufacturer, Distributor/Wholesaler, Trading Company, Seller
  • Funcionários: 50~100
  • Ano Estabelecido: 2006